REVISTA MINERÍA 543 | EDICIÓN DICIEMBRE 2022

MINERÍA la mejor puerta de acceso al sector minero MINERÍA / DICIEMBRE 2022 / EDICIÓN 543 13 estándar, (Higuera, Tristancho; 2006), en la mezcla peróxido-agua en soluciones ácidas, son como sigue: H2O2 + 2H+ +2e- ↔ 2 H 2O εº = 1.763 V En soluciones alcalinas: HO2 - + H 2O +2e- → 3OH- εº = 0.867V Estos potenciales positivos tan altos sitúan al peróxido en el grupo de los más poderosos agentes oxidantes. Este peróxido es inestable con respecto a la oxidación del agua, y también a su propia oxidación y reducción en ambas soluciones ácidas y alcalinas. Agentes oxidantes fuertes pueden oxidar el peróxido a O2, pero la mezcla H2O2/ H2O tiene altos potenciales que en muchas instancias las especies reducidas del agente oxidante son oxidadas nuevamente a su estado original. El resultado de este comportamiento es la descomposición del peróxido a O2 y H2O, (Higuera, Tristancho; 2006). La descomposición del peróxido de hidrógeno aumenta significativamente con la presencia de contaminantes metálicos (particularmente con iones de hierro). El H2O2 es un ácido débil que se ioniza de acuerdo con la reacción: H2O2 ↔ H+ + OOH- En un medio de alcalinidad débil, el H2O2 se descompone según la ecuación: H2O2 + OH- ↔ H 2O + OOH- hasta la formación del ion perhidroxilo OOH-. En soluciones alcalinas, la descomposición del H2O2, se describe como una reacción catalizada por base, que involucra su reacción con el ion perhidroxilo (HOO-), según la reacción (Evans, D.F.,Upton, M.W., 19851; Galbacs, Z.M., Csanyl, L.J., 1983): H2O2 + HOO- ↔ OH- + H 2O + O2 A su vez, el ion OH- reacciona con el H 2O2 restante para formar el ion perhidroxilo HOO- (Siddiqui, S., 2011): H2O2 + OH- ↔ HOO- + H 2O En condiciones de elevada alcalinidad, el H2O2 puede descomponerse según la reacción: H2O2 + H2O ↔ 1/2 O2 + H2O Para valores de pH inferiores a 10.5, menos del 10% de H2O2, está presente como ion perhidroxilo OOH- (De La Macorra G., C. et al., 2004). Las mezclas NH3(ac)-H2O2 son ampliamente empleadas para limpiar de partículas la superficie del silicio empleado en semiconductores. Sin Figura 4. Diagrama Eh-pH para el sistema ZnNH3(ac)-CO3-S-H2O a 15 °C. Figura. 3 Diagrama Eh-pH para el sistema CuNH3(ac)-CO3-S-H2O a 15 °C.

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